磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜，在国防和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺

在真空镀膜设备真空装置自动控制中，往往要进行真空测量，由于真空装置种类繁多、工作压力范围也不尽相同，因此，从105Pa—10-5Pa各真空区域的真空测量坞会遇到。通常使用的真空计有电阻真

众所同知,真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射,那么,蒸发镀膜和溅射镀膜有什么区别?不少新手朋友有这样的疑问,下面小编为大家做出的相关讲解。 真空蒸发膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻

常用物理气相沉积技术（PVD）之蒸镀、溅射、离子镀，这三种技术都要在真空条件下才能得以实现。制备现代薄膜材料，不管是物理气相沉积技术（PVD），还是化学气相沉积技术（CVD），都要涉及真空条件下气相产

灯丝控制极窗口靠近发射电子多，在同样的电源电压及束流下（束流为阳极截获电流与坩埚中电流之和）蒸发速率就快，但易受离子攻击，导致灯丝寿命缩短。灯丝与控制极（聚束极）国内、国外设备装配尺寸可以相同，都是同

进行离子源操作时需要戴清洁的手套。清洗离子源分为以下三个步骤：1、取出离子源。停止真空后，拧松真空舱旋钮，拉开舱门，用镊子拔下排斥极挡片，把导线移到左边，把离子源安装杆放在离子源上，用一字螺丝刀把离子

多弧离子镀概念简单说,多弧离子镀的原理就是将阴极靶作蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电, 使靶材蒸发, 从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积 。离子镀技术是结合蒸发与溅射技术而发展的一种 PV

虽然石墨坩埚拥有体积密度大、耐高温、传热快、耐酸碱侵蚀、高温强度大、抗氧化性能高等特点，但是对于个别原料的炼制，在坩埚使用以后的清理工作却很麻烦。石墨坩埚的清洗首要进行的工作是将坩埚内的化学物质清理出

电子枪是对电子轰击靶屏发光进行加速的一种装置，电子枪的功能在于给出满足要求的电子束，在挑选电子枪的材料和工艺结构时，需要考虑到电子枪易于加工和使用方便。电子枪的阴极对其寿命的长短起决定性作用，而阴极的